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微型PECVD系统本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用,同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。
多通道管式炉此款设备为我司研发的新一代产品,将6台管式气氛炉集成与一体,且又能独立控制,可同时进行平行试验;顶上二组管式炉可半盖开启,可透过石英管直接观察样品烧结时的状态;整机液晶屏集中管理,操作简便...
本款有机小分子提纯(升华仪)主要用途是在真空条件下对有机混合物进行升华达到纯化的目的(即蒸发后重结晶),主要处理的对象为具有升华性的有机材料,或具有流动相特性混合物如有机声光产品(如有机发光显示器用的...
三温区滑轨式PECVD系统本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用,同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。
ZMF-1700C-H2高温气氛箱式炉采用氧化铝纤维作为炉膛材料,以钼 丝作为加热元件,炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口,以保证仪器工作时的密封性能。...
实验室高温箱式炉采用优质U型硅棒加热,PID程序控温仪控制,温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。
低真空CVD石墨烯生长系统是由1200度开启式管式炉、精密的质量流量控制系和真空系统所组成。广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
迷你型CVD系统控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能
BTF-1700C-CVD1700度高温CVD系统 (高真空 低真空可选)是由1700度管式炉、三路质量流量计系统以及国产高真空系统(或选配低真空系统)所组成。
此款立式管式炉法兰可上下多档移动,法兰上的特殊设计方便挂烧样件,实现真空或气氛下的淬火实验,广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门。
双温区管式炉广泛应用于CVD实验,荧光粉制备,真空或气氛烧结,基片镀膜等实验环境。技术成熟,质量可靠,温场均匀,结构合理。
1750℃ 高温硅钼棒加热管式炉的炉体采用双层风冷机构,炉子烧到最高温度时,壳体表面温度低于60度。
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